报告称中国已经囤积了343台深紫外光刻机，美国呼吁全面禁止出口
根据华盛顿研究机构技术与国家治理中心（CTS）报告，中国半导体厂商在近年间积累了大量浸没式深紫外（DUV）光刻机。截至2026年初，中国工厂已拥有约343台此类设备，其中约270台为ASML的Twinscan NXT:1980i型号。尽管这些设备落后于极紫外（EUV）光刻机，但仍可用于制造7纳米级逻辑芯片及人工智能处理器。报告指出，中国在2024至2025年间斥资逾130亿美元购入相关设备，促使前美国官员及部分议员呼吁彻底封锁此类设备对华出口，并限制备件和服务，以堵住现有出口许可制度中的漏洞。报告警告称，若不切断进口，中国到2035年的AI芯片产能将远高于实施禁运后的水平。
—— 南华早报
0 评论